江東Logo蝕刻加工廠(chǎng)

4。密封油的產(chǎn)物，即所謂的密封油，人為地在注射過(guò)程中補(bǔ)充產(chǎn)品的邊緣，并且它不能被噴灑。該產(chǎn)品的金屬部分必須以不暴露于油進(jìn)行處理，否則它會(huì)被蝕刻。有缺陷的產(chǎn)品的外觀(guān)，并且將產(chǎn)物用補(bǔ)充油并干燥。在干燥完成后，將產(chǎn)物進(jìn)行檢查。檢查和確認(rèn)后，就可以移動(dòng)到下一個(gè)過(guò)程：蝕刻。

蝕刻速率可以通過(guò)控制蝕刻液中的酸性部分的濃度來(lái)控制。例如，當(dāng)僅添加磷酸，以控制酸成分的濃度，在蝕刻液中的硝酸濃度，即，在蝕刻液中的氧化劑的濃度可以降低。此外，如果氧化劑的濃度變得過(guò)低，存在這樣的擔(dān)憂(yōu)的是，上述式（B）的反應(yīng)不能進(jìn)行，并且蝕刻速度是低的。因此，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，通常，磷酸與硝酸的比例被確定，以滿(mǎn)足上述式（C）和（d）。然而，即使這些公式不滿(mǎn)足，只要在蝕刻液中的硝酸濃度（mol？是一個(gè)范圍內(nèi)（AY）大于產(chǎn)品的離子化金屬濃度的（A）（A）和金屬化合價(jià)（Y）就是這樣。

因此，鈦是一種具有良好的穩(wěn)定性酸性和堿性和中性鹽溶液中以中和氧化介質(zhì)，并具有非鐵金屬，如不銹鋼等現(xiàn)有，甚至媲美鉑為更好的耐腐蝕性。然而，如果鈦表面上的氧化膜可以連續(xù)地溶解在一定的介質(zhì)中，將鈦在介質(zhì)中腐蝕。例如，在鈦氫氟酸，濃縮或熱鹽酸，硫酸和磷酸，因?yàn)檫@些解決方案溶解鈦表面上的氧化膜，鈦被腐蝕。如果氧化劑或某些金屬離子加入到這些溶液中，鈦表面上的氧化膜將被保護(hù)，和鈦的穩(wěn)定性將增加。純銅是最高的銅含量銅，因?yàn)樽仙脖环Q(chēng)為銅，其主要成分是銅加銀，含量為99.7-99.95主雜質(zhì)元素：磷，鉍，銻，砷，鐵，鎳，鉛，錫，硫，鋅，氧等;用于制備導(dǎo)電性設(shè)備，先進(jìn)的銅合金，銅基合金。

如果它不能通過(guò)蝕刻工藝可以解決，激光切割可以在此時(shí)被考慮。然而，激光切割工藝的材料和現(xiàn)象很容易變化，即，將殘余物是不容易清潔的或一些燃燒和發(fā)黑在清潔過(guò)程中會(huì)發(fā)生。不是一個(gè)完美的0.1毫米孔的解決方案。如果要求不是很高的話(huà)，你可以試試。

溶解也包含在圓弧狀的上述中央部。以下是與蝕刻的金屬相容的強(qiáng)腐蝕性也很重要。蝕刻劑的強(qiáng)度，噴霧壓力密度，蝕刻溫度，設(shè)備的傳輸速率（或蝕刻時(shí)間）等。這些五行適當(dāng)協(xié)調(diào)。在很短的時(shí)間時(shí)，中央突起可被切成大致直的邊緣，由此實(shí)現(xiàn)更高的蝕刻精度。在照片的腐蝕保護(hù)技術(shù)的化學(xué)蝕刻過(guò)程中，最準(zhǔn)確的一個(gè)用于處理硅晶片的集成電路的各種薄層。切割幾何結(jié)構(gòu)也非常小。這些部件不以任何方式受到影響，和所使用的各種化學(xué)品，如各種清潔劑，各種腐蝕劑，等等，都是非常高的純度化學(xué)試劑。

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