蝕刻技術(shù)屬于感光化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域, 是用光刻腐蝕加工薄形準(zhǔn)確金屬制品的一種方法。其基本原理是利用化學(xué)感光材料的光敏特性, 在基體金屬基 片兩面均勻涂敷感光材料采用光刻方法, 將膠膜板上柵網(wǎng)產(chǎn)顯形狀準(zhǔn)確地復(fù)制到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過(guò)顯影去除未感光部分的掩膜, 將裸露的金屬部分在后續(xù)的加工中與腐蝕液直接噴壓接觸而被蝕除,后面獲取所需的幾何形狀及高精度尺寸的產(chǎn)品技術(shù)蝕刻技術(shù)

　　蝕刻一共有兩大類：

　　1：干式蝕刻;

　　2:濕式蝕刻。

　　較早的蝕刻技術(shù)是利用特定的溶液與薄膜間所進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)來(lái)去除薄膜未被光阻覆蓋的部分，而達(dá)到蝕刻的目的，這種蝕刻方式也就是所謂的濕式蝕刻。因?yàn)闈袷轿g刻是利用化學(xué)反應(yīng)來(lái)進(jìn)行薄膜的去除，而化學(xué)反應(yīng)本身不具方向性，因此濕式蝕刻過(guò)程為等向性，一般而言此方式不足以定義3微米以下的線寬，但對(duì)于3微米以上的線寬定義濕式蝕刻仍然為一可選擇采用的技術(shù)。

　　濕式蝕刻的優(yōu)點(diǎn)：低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比。但相對(duì)于干式蝕刻，除了無(wú)法定義較細(xì)的線寬外，濕式蝕刻仍有以下的缺點(diǎn)：

　　1) 需花費(fèi)較高成本的反應(yīng)溶液及去離子水；

　　2) 化學(xué)藥品處理時(shí)人員所遭遇的安全問(wèn)題；

　　3) 光阻附著性問(wèn)題；

　　4) 氣泡形成及化學(xué)蝕刻液無(wú)法完全與晶圓表面接觸所造成的不完全及不均勻的蝕刻；

　　5) 廢氣及潛在的爆炸性。

• 上一篇：增城蝕刻加工工藝
• 下一篇：五金沖壓件中拉伸件的幾種工藝性